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商務部回應荷蘭擴大光刻機出口管制范圍

2024年09月08日 22:37 | 來源:新華社 分享到: 

新華社北京9月8日電 針對荷蘭近日宣布將擴大光刻機出口管制范圍,商務部新聞發言人8日回應稱,中方注意到相關情況。近來,中荷雙方就半導體出口管制問題開展了多層級、多頻次的溝通磋商。荷方在2023年半導體出口管制措施的基礎上,進一步擴大對光刻機的管制范圍,中方對此表示不滿。

這位發言人表示,近年來,美國為維護自身全球霸權,不斷泛化國家安全概念,脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施,嚴重威脅全球半導體產業鏈供應鏈穩定,嚴重損害相關國家和企業正當權益,中方對此堅決反對。

這位發言人說,荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發,尊重市場原則和契約精神,避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展,不濫用出口管制措施,切實維護中荷企業和雙方共同利益,維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。


編輯:朱建華