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從“差三代”到“全覆蓋”——國產(chǎn)離子注入機(jī)自主研發(fā)攻關(guān)紀(jì)實(shí)

2024年03月19日 14:27  |  作者:付毅飛  |  來源:科技日?qǐng)?bào) 分享到: 

提起離子注入機(jī),熟悉集成電路的人都知道,該設(shè)備與光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、鍍膜機(jī)并稱為芯片制造的“四大核心裝備”,其高端市場(chǎng)長期被國外壟斷。

20多年前,為突破集成電路裝備自主創(chuàng)新的堵點(diǎn)卡點(diǎn),中國電科所屬中電科電子裝備集團(tuán)(以下簡稱“電科裝備”)第四十八研究所組建研發(fā)團(tuán)隊(duì),走上離子注入機(jī)科研攻關(guān)之路。

“當(dāng)時(shí),我國離子注入機(jī)工藝精度只有0.5微米,相比國際先進(jìn)的90納米,在技術(shù)指標(biāo)上差了三代。”電科裝備黨委書記、董事長景璀日前告訴科技日?qǐng)?bào)記者,“研發(fā)團(tuán)隊(duì)奮起直追,先后攻克千余項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù),實(shí)現(xiàn)了國產(chǎn)離子注入機(jī)‘從無到有’、再到‘多點(diǎn)開花’的跨越。”

今年年初,“中國電科實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)離子注入機(jī)28納米工藝全覆蓋”入選“2023年度央企十大國之重器”。

“孤勇出征”?造出首臺(tái)樣機(jī)

制造芯片時(shí),由于純凈硅不具備導(dǎo)電性,需要摻入不同種類的元素改變其結(jié)構(gòu)與電導(dǎo)率。

這一過程要靠離子注入機(jī)來完成——通過電磁場(chǎng)控制高速運(yùn)動(dòng)的離子,按照工藝要求將其精準(zhǔn)注入硅基材料,從而控制材料的導(dǎo)電性能,進(jìn)而形成PN結(jié)等集成電路器件的基本單元。

2003年,研發(fā)團(tuán)隊(duì)開啟了高端離子注入機(jī)的攻關(guān)歷程。國內(nèi)經(jīng)驗(yàn)匱乏,國外技術(shù)封鎖,團(tuán)隊(duì)成員將當(dāng)時(shí)的情景形容為“孤勇出征”。

電科裝備旗下北京爍科中科信電子裝備有限公司(以下簡稱“爍科中科信”)技術(shù)總設(shè)計(jì)師彭立波回憶,他們擠在小公寓里研究設(shè)計(jì)圖紙,在租借的小廠房里做實(shí)驗(yàn)。團(tuán)隊(duì)里剛畢業(yè)的小伙、剛成家生子的青壯年,以及快退休的老同志,大家一起工作、一起生活,隔3個(gè)月才能回一次家。

為盡快打造出具有市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力的裝備,研發(fā)團(tuán)隊(duì)選擇了一款100納米機(jī)型作為參考機(jī)器。“為什么這樣設(shè)計(jì)?跟應(yīng)用有什么對(duì)應(yīng)關(guān)系?都要逐一認(rèn)知、消化吸收。”彭立波說。

那時(shí)缺乏計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)工具,面對(duì)內(nèi)部結(jié)構(gòu)精密而復(fù)雜的離子注入機(jī),幾位經(jīng)驗(yàn)豐富的老師傅絞盡腦汁,整天圍著設(shè)備苦苦鉆研,全憑二維設(shè)計(jì)和空間構(gòu)思去理解這些構(gòu)造,用了幾個(gè)星期才把它搞明白。

“離子注入機(jī)采用光纖通信系統(tǒng)進(jìn)行控制,我們必須弄清楚光纖通信模塊的底層控制邏輯。”彭立波告訴記者。由于從樣機(jī)中只能獲得二進(jìn)制代碼,研發(fā)人員被逼反向破解,逐行逐字推敲,摸索控制指令及其對(duì)應(yīng)的功能,反復(fù)琢磨這些指令對(duì)產(chǎn)品工藝精度和技術(shù)指標(biāo)的影響。

歷時(shí)近兩年,研發(fā)團(tuán)隊(duì)在吃透機(jī)器構(gòu)造原理、控制設(shè)計(jì)思路等基礎(chǔ)上,完成了自主樣機(jī)的設(shè)計(jì)方案,并突破關(guān)鍵部件研制難題,最終造出首臺(tái)樣機(jī)。

“破釜沉舟”?完成工藝驗(yàn)證

從樣機(jī)到市場(chǎng),其間路途漫漫。

“功能和指標(biāo)只是進(jìn)入市場(chǎng)的第一道門檻。要得到用戶認(rèn)可,嚴(yán)苛的工藝驗(yàn)證才是真正的考驗(yàn)。”彭立波說。

回憶起考驗(yàn)的艱辛,爍科中科信研發(fā)工程中心總監(jiān)陳輝至今仍“心有余悸”。

2012年底,研發(fā)團(tuán)隊(duì)成功研制出28納米中束流離子注入機(jī),陳輝帶著設(shè)備進(jìn)駐用戶單位。按規(guī)定,要在兩年內(nèi)完成產(chǎn)線工藝驗(yàn)證。實(shí)際上,除去大規(guī)模量產(chǎn)前的穩(wěn)定性驗(yàn)證和試投產(chǎn),真正留給工藝驗(yàn)證的時(shí)間只有一年左右。

離子注入機(jī)完成一輪驗(yàn)證就需要近3個(gè)月,而且其過程像“開盲盒”。只有把所有工序走完,對(duì)成品進(jìn)行電性測(cè)量后,才知道離子注入質(zhì)量如何。一旦驗(yàn)證結(jié)果不合格,就要調(diào)出整個(gè)注入過程中所有的參數(shù),逐一檢查比對(duì),找到問題,然后修正。

此前,研發(fā)團(tuán)隊(duì)已成功交付90至65納米離子注入機(jī),在回溯調(diào)查、工藝處理方面積累了豐富經(jīng)驗(yàn)。但28納米工藝對(duì)注入劑量、角度、能量等技術(shù)參數(shù)更敏感,對(duì)精度要求更高,由此帶來許多新問題,需要一點(diǎn)點(diǎn)摸索。

“第一輪驗(yàn)證,沒有完全成功。”陳輝說。他和同事回溯、修正,線上、線下試驗(yàn),再等3個(gè)月出產(chǎn)品,又測(cè)一輪,仍未成功。

對(duì)于2013年的夏天,陳輝迄今難以忘懷。除了40攝氏度的持續(xù)高溫,連續(xù)失敗更令他備受煎熬。用戶也承受了巨大壓力,乃至發(fā)出最后通牒:“再不行就把設(shè)備搬走!”

第三輪驗(yàn)證被陳輝形容為“破釜沉舟”。他們對(duì)設(shè)備進(jìn)行軟硬件升級(jí),把此前出過問題的環(huán)節(jié)全部重試一遍,確保無誤之后才開始驗(yàn)證。

這一輪驗(yàn)證雖然花費(fèi)了更多時(shí)間,但終于達(dá)到了用戶的要求,同時(shí)也獲得了他們的信任。全部驗(yàn)證流程完成后,用戶如約采購了這臺(tái)設(shè)備,并對(duì)此后采購的同類設(shè)備簡化了驗(yàn)證流程。

“多點(diǎn)開花”?打造國之重器

完成28納米中束流離子注入機(jī)工藝驗(yàn)證后,研發(fā)團(tuán)隊(duì)于2017年全面鋪開大束流離子注入機(jī)研發(fā)。他們要在產(chǎn)品譜系上“多點(diǎn)開花”。

中束流與大束流離子注入機(jī),分別應(yīng)用在芯片制造的不同環(huán)節(jié),適用于不同工藝需求。二者各有所長,缺一不可。

“簡單說,芯片核心計(jì)算部位的‘精細(xì)活’由中束流機(jī)型做;芯片外圍引腳之類的‘粗活’由大束流機(jī)型做。”彭立波打比方道,這樣的配合既能提高效率,又能降低成本。

有了中束流設(shè)備的研制經(jīng)驗(yàn),大束流設(shè)備研制一路“高歌猛進(jìn)”——2018年實(shí)現(xiàn)樣機(jī)設(shè)計(jì),2019年完成樣機(jī)裝配及調(diào)試,2020年交付用戶,2021年底開始工藝驗(yàn)證。

但驗(yàn)證過程并沒有想象中順利,研發(fā)團(tuán)隊(duì)經(jīng)歷了又一次刻骨銘心的爬坡過坎。

“幾乎所有指標(biāo)都達(dá)到了期望值,就在我們以為勝利在望時(shí),某一元素的離子注入劑量被檢測(cè)出偏差過大。”陳輝說。

為了找出問題的原因,研發(fā)團(tuán)隊(duì)不得不從設(shè)計(jì)源頭重溯——這相當(dāng)于從頭再來。他們每天24小時(shí)守在實(shí)驗(yàn)室里,開展大量仿真實(shí)驗(yàn)和工藝驗(yàn)證。就這樣連續(xù)奮戰(zhàn)了兩個(gè)多月,終于使劑量偏差精度達(dá)到國際先進(jìn)水平。

隨著時(shí)間的推移,器件研制能力持續(xù)增強(qiáng),軟件系統(tǒng)不斷迭代升級(jí),工藝精度穩(wěn)步提升……2023年,研發(fā)團(tuán)隊(duì)成功實(shí)現(xiàn)全系列離子注入機(jī)28納米工藝全覆蓋。

20多年來,研發(fā)團(tuán)隊(duì)先后研制出中束流、大束流、高能、特種等全系列國產(chǎn)離子注入機(jī)產(chǎn)品,超百臺(tái)設(shè)備廣泛應(yīng)用于各集成電路制造企業(yè)90納米、55納米、40納米、28納米工藝生產(chǎn)線,為我國集成電路產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈安全與穩(wěn)定提供了堅(jiān)實(shí)保障。

“習(xí)近平總書記在考察中國電科產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)研究院時(shí)指出,必須瞄準(zhǔn)國家戰(zhàn)略需求,系統(tǒng)布局關(guān)鍵創(chuàng)新資源,發(fā)揮產(chǎn)學(xué)研深度融合優(yōu)勢(shì),不斷在關(guān)鍵核心技術(shù)上取得新突破。”景璀向記者表示,“下一步,我們將一以貫之、久久為功,繼續(xù)推動(dòng)離子注入機(jī)的創(chuàng)新迭代和量產(chǎn)應(yīng)用,全力打造高端裝備制造中國名片!”

編輯:馬嘉悅